Услуги
ИОМТ предлага на своите клиенти и следните услуги:
• изображения върху стъкло чрез разработения в ИОМТ неорганичен резист
• фотолитографско структуриране на различни слоеве: Cr, NiCr, Al, Si, SiO2, Si3N4, Au, Pt, ITO, AIN, стъкло
• вакуумно отлагане на тънки слоеве от метали, ITO, диелектрици, сребърни халогениди, халкогенидни стъкла, керамики, органични и композитни материали
• спектрометрични измервания на пропускането и отражението на твърди образци в спектралната област 190-3300 nm със спектрофотометър CARY 5E – Varian
• I-V измервания в широк обхват на стойности на ток – от 100 fA до 1A DC и напрежение от 10 nV до 1000V DC
• рентгенов микроанализ (Philips 505/EDAX 9100 и Philips525/EDAX 9900)
• рентгенов дифракционен анализ (Philips 1710) XRD analisis
• сканираща електронна микроскопия и повърхностен морфологичен и релефен анализ (Phillips 515)
• трансмисионна електронна микроскопия (JEOL JEM 2100 200 kV)- за изследване на формата, големината, структурата и фазовия състав на наноразмерни обекти – наночастици, нанотръбички и др., както и структурата и фазовия състав на тънки слоеве с дебелина под 100 нм; изисква се изследваните материали да не са магнитни и силно радиационно чувствителни ◊
US Pat.4499 073/1985; EU Pat. 0034490/1983, Bulg. Authorship 34522/1983
Разработена е уникална фоторезистна система позволяваща възпроизвеждане на структури до 0.4 µm с конвенционалните устройства на експозиция (λ = 436 nm) и до 0.1 µm при експониране с електрони и рентгенови лъчи. Структури до 1 µm лесно се възпроизвеждат с lift off процес.
Неорганичният фоторезист представлява аморфен халкогениден филм, изпарен във вакуум, който при експонация променя значително своята разтворимост в алкални разтвори като запазва своята отлична устойчивост към повечето киселини.
СПЕЦИФИКАЦИЯ:
- Спектрална чувствителност - λ<540 nm;
- Чувствителност 0.2 J/cm2, (λ = 436 nm); за електрони: 1,3.10-4C cm-2 at 7.5 kV;
- Експозиция ширина ± 30%;
- Проявяване ширина ± 100%;
- Острота на ръба и точност по-добра от 0.1 μm, в зависимост от качеството на маската;
- Минимална ширина на детайла 0.3 μm (λ = 436 nm), 0.1 микрометра (електронен лъч);
- Срок на годност на експониран и неекспониран материал - над 6 месеца;
Блокова схема на технологията за неорганичен резист
Прецизно фотолитографско стуктуриране на тънки вакуумно изпарени слоеве от на Cr, Ti, Ni, NiCr, Al, AlN, Al2O3, Cu, Au, Si, SiO2, Si3N4, Pt, и др. и стъклени подложки
Ние предлагаме технология и технологични производствени линии за производство на кръгови енкодерни решетки (2.5x2.5" and 4x4") – повече от 40000 бр. за година и линейни решетки до 200x1600 mm повече от 10000 линейни метри за година
Енкодерна решетка (увеличено)
ИОМТ приема поръчки за запис на отражателни холограми с размери до 30 Х 40 см, образци от които са представени по-долу. Холограмите възстановяват пълната информация за заснетия обект – обемност и цветност. Най-подходящи за тази цел са обемните отражателни холограми на Денисюк, възстановявани с обикновена, бяла светлина. Възприятието на холографския образ съвпада изцяло с възприятието на самия обект. Демонстрирането на холограмите изисква специално осветление и подходящо художествено оформление на сцената за възстановяването. В Лабораторията са разработени подходящи пана, включващи и светлинни източници за възстановяване на холограмите, успешно използвани в холографски изложби и частни колекции.
Създаването на обемни холографски копия на музейни експонати, произведения на изкуството и други реликви е едно от първите практически приложения на изобразителната холография. Обикновено достъпът до тези обекти е ограничен поради тяхната уникалност, специалните условия на съхранение и от съображения за сигурност. Ето защо ИОМТ предлага запис на холограми там, където се съхраняват обектите – музеи, изложбени зали, частни колекции и др., с преносима установка.
Изложба на холограми, произведени в ИОМТ
Холограма на икона